近日，广东省大湾区集成电路与系统应用研究院计算光刻研发中心主任、国家级高端技术人才专家、中国科学院微电子研究所研究员韦亚一与研究员粟雅娟莅临粤芯半导体。

2020年突如其来的新冠肺炎疫情正在以前所未有之势改变着人们的生活和工作方式，并对全球经济造成了一定的冲击。新一代信息技术在疫情防控中发挥重要作用，这也使得信息行业的基石—芯片产业再一次被聚焦在全国人民的聚光灯下。我国集成电路市场需求庞大,但整体技术、制造工艺与国外差距较大, 掌握国际先进制造技术的重要性不言而喻。

面对快速发展的芯片市场，粤芯半导体在加快释放产能的同时，也将在先进制程技术的研发上持续加码投入。光刻作为先进制程的卡脖子关口，需要优先攻克。在这次合作调研上，韦教授从当前集成电路制造的光刻工艺需求出发，详细介绍和分析了当前光刻工艺的发展趋势，系统性地对光刻工艺模块的关键要素、衔接关系进行了梳理，结合粤芯半导体当前技术节点的特征，厘清了工艺中可能遇到的问题和风险，并给出相应的技术解决方案。在座谈会上，粤芯半导体光刻工程师们还不忘就晶圆厂在实际的生产工艺研发过程中所遇到的问题与韦教授一行进行了面对面的深入交流，学术交流氛围浓厚。

此次中科院微电子研究所与粤芯半导体的产学研合作对粤芯、粤芯人来说都是一种极大的鼓舞。在未来，粤芯半导体将加速推进先进制程技术的研发和产能的进一步释放，为中国半导体产业链的良性发展贡献一份粤芯力量！

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