ASML全新EUV光刻机将于2021年发货，生产效率提升18%

2026-05-26 10:30分类：科技前沿阅读：

ASML近日官宣，最新规格EUV光刻机拟明年中期发货。

据《科创板日报》消息，ASML公布了EUV路线图上的新机型TWINSCANNXE:3600D的最终规格，这是30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，提高了18%的生产率，并改进机器匹配套准精度至1.1纳米，并计划于2021年的中期开始发货。

ASML全新EUV光刻机将于2021年发货，生产效率提升18%（图1）

在DUV光刻业务领域，ASML在本季度对第一台TWINSCAN NXT:2050i进行了质量认证，并于第四季度初发货。NXT:2050i基于NXT平台的新版本，其中包括掩模版工作台，晶圆工作台，投影物镜和曝光激光器的技术改进。该系统提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生产率，而且，NXT:2050i 将立即进入批量生产。

ASML全新EUV光刻机将于2021年发货，生产效率提升18%（图2）